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納微半導體推出全新SiCPAK?功率模塊

日期:2025-04-21 閱讀:219
核心提示:納微半導體今日宣布推出最新SiCPAK功率模塊,該模塊采用環(huán)氧樹脂灌封技術及納微獨家的溝槽輔助平面柵碳化硅MOSFET技術,經(jīng)過嚴格

 納微半導體今日宣布推出最新SiCPAK™功率模塊,該模塊采用環(huán)氧樹脂灌封技術及納微獨家的“溝槽輔助平面柵”碳化硅MOSFET技術,經(jīng)過嚴格設計和驗證,適用于最嚴苛的高功率環(huán)境,重點確??煽啃耘c耐高溫性能。目標市場包括電動汽車直流快充(DCFC)、工業(yè)電機驅(qū)動、不間斷電源(UPS)、光伏逆變器與功率優(yōu)化器、儲能系統(tǒng)(ESS)、工業(yè)焊接及感應加熱。

 

 

 

 

全新的1200V SiCPAK™功率模塊系列,采用先進環(huán)氧樹脂灌封技術,通過隔絕濕氣入侵以承受高濕度惡劣環(huán)境,并通過降低功率與溫度變化引起的性能衰減以穩(wěn)定實現(xiàn)更高的熱耐性。 

 

在經(jīng)歷1000次熱沖擊測試(-40°C至+125°C)后,納微半導體SiCPAK™模塊的熱阻增加量比傳統(tǒng)硅膠填充殼體式模塊低5倍。此外,所有硅膠填充模塊在以上熱沖擊測試后均未通過隔離測試,而SiCPAK™環(huán)氧樹脂灌封模塊仍保持合格隔離等級。 

 

憑借超過20年的碳化硅創(chuàng)新領導地位,納微半導體GeneSiC™獨家的“溝槽輔助平面柵”碳化硅MOSFET技術不僅可以提供業(yè)界領先的溫域性能,還能將損耗降低20%,同時運行的溫度更低并具有更卓越的魯棒性,從而為系統(tǒng)長期可靠性奠定基礎。 

 

“溝槽輔助平面柵”技術使得RDS(ON)相較于溫度的變化更穩(wěn)定,在更寬運行范圍內(nèi)保持最低功率損耗,與競品相比在高溫實際工況下RDS(ON)降低達20%。此外,所有GeneSiC™碳化硅MOSFET均具備已公布的100%全測雪崩能力(行業(yè)最高水平),短路耐受能力提升達30%,并具備便于并聯(lián)的嚴格閾值電壓分布。 

1200V SiCPAK™功率模塊內(nèi)置NTC熱敏電阻,提供4.6m?至18.5m?規(guī)格,支持半橋、全橋及3L-T-NPC電路配置,與行業(yè)標準壓接式模塊可實現(xiàn)引腳對引腳兼容。另可選配預涂導熱界面材料(TIM)以簡化組裝流程。

(來源:納微芯球)

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