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芯導科技申請一種 T 型溝槽柵碳化硅 MOSFET 器件結構及其制備方法專利,提高了柵極可靠性

日期:2024-09-12 閱讀:262
核心提示:天眼查知識產權信息顯示,上海芯導電子科技股份有限公司申請一項名為一種 T 型溝槽柵碳化硅 MOSFET 器件結構及其制備方法,公開

天眼查知識產權信息顯示,上海芯導電子科技股份有限公司申請一項名為“一種 T 型溝槽柵碳化硅 MOSFET 器件結構及其制備方法“,公開號 CN202410535561.5 ,申請日期為 2024 年 4 月。

專利摘要顯示,一種 T 型溝槽柵碳化硅 MOSFET 器件結構,該器件結構的第一溝槽和第二溝槽構成了 T 型溝槽,溝槽底部長度減少,對應減少了柵極承壓范圍,提高了柵極可靠性,位于第一溝槽底部的阱區內的第一摻雜區替代了電流拓展層,改善整體 P 型和 N 型注入濃度和能量的調控范圍,位于所述第二溝槽底部的漂移區內的第二摻雜區相當于屏蔽層,該屏蔽層的寬度較小,在器件關閉狀態下,該第二摻雜區可以和襯底進行耗盡,減小了溝槽柵底部耐壓,平衡了電場分布,減少了導通電阻。

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