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芯聚能“碳化硅MOSFET器件及其制備方法”專利公布

日期:2024-07-08 閱讀:241
核心提示:天眼查顯示,廣東芯聚能半導體有限公司碳化硅MOSFET器件及其制備方法專利公布,申請公布日為2024年6月28日,申請公布號為CN11826

天眼查顯示,廣東芯聚能半導體有限公司“碳化硅MOSFET器件及其制備方法”專利公布,申請公布日為2024年6月28日,申請公布號為CN118263326A。

本申請涉及一種碳化硅MOSFET器件及其制備方法,碳化硅MOSFET器件包括襯底、第一摻雜區、柵極溝槽、控制柵結構和分裂柵結構,第一摻雜區設置于襯底內;柵極溝槽設置于第一摻雜區內,且從襯底的正面開口并沿襯底的厚度方向延伸,柵極溝槽包括第一子溝槽和第二子溝槽,第二子溝槽位于第一子溝槽背離襯底的正面的一側;控制柵結構設置于第一子溝槽內,控制柵結構包括控制柵導電層和控制柵介質層,控制柵介質層位于控制柵導電層與第一子溝槽的槽壁之間;分裂柵結構設置于第二子溝槽內,分裂柵結構包括分裂柵導電層和分裂柵介質層,分裂柵介質層包覆分裂柵導電層;控制柵介質層的介電常數和分裂柵介質層的介電常數不同。

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