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武漢新芯“半導體器件及其制備方法”專利公布

日期:2024-02-23 閱讀:229
核心提示:天眼查顯示,武漢新芯集成電路制造有限公司半導體器件及其制備方法專利公布,申請公布日為2024年2月20日,申請公布號為CN1175775

 天眼查顯示,武漢新芯集成電路制造有限公司“半導體器件及其制備方法”專利公布,申請公布日為2024年2月20日,申請公布號為CN117577581A。

本申請?zhí)峁┮环N半導體器件及其制備方法。該制備方法包括提供半導體基體,半導體基體包括第一鈍化層、設于第一鈍化層上的第一金屬層以及第二鈍化層,第二鈍化層覆蓋第一金屬層,且第二鈍化層具有第一開口,第一開口露出第一金屬層的至少部分;在第二鈍化層背離第一鈍化層的一側表面設置掩膜圖案,掩膜圖案露出第一開口;在掩膜圖案背離第一鈍化層的一側形成第二金屬層,第二金屬層覆蓋掩膜圖案、第一金屬層的部分和第二鈍化層通過掩膜圖案露出的部分;去除掩膜圖案和位于掩膜圖案上的第二金屬層,以形成重布線結構。該方法可以有效去除非必要的金屬,不會出現(xiàn)金屬殘留;同時重布線結構的厚度均一性較好,可以有效降低制造成本。

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