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    guansheng2023-05-19 14:55
  • Saphlux Inc公司副總
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    guansheng2023-05-19 11:55
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    The preparation of low-cost and 4 inch AlN template for high performance UVC-LEDAuthor: Ye Yuan, Shangfeng Liu, Lijie Hu
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  • 【視頻報告 2019】Ult
    上海大學(xué)教授,Ultratrend Technologies Inc總裁吳亮分享了大批量工藝制備的高質(zhì)量氮化鋁模板材料表征分析。報告中介紹了使用Ult
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    limit2021-04-29 10:41
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    美國NAURA-Akrion, Inc.首席技術(shù)官Ismail I. KASHKOUSH分享了基于碳化硅器件制造的先進化學(xué)濃度控制技術(shù)的研究成果。在傳統(tǒng)的MEMS制備中,相對惰性化合物(比如Si3N4)通常用于刻蝕停止或者制備襯底中的掩膜。然而這種材料需要了解刻蝕對于襯底的選擇性。對于過去的20年,研究發(fā)現(xiàn)碳化硅(SiC)因為其化學(xué)性質(zhì)比較惰性已經(jīng)可以作為傳統(tǒng)批量微加工刻蝕停止的替代物。包括燃料霧化器,壓力傳感器和微型模具等MEMS應(yīng)用中可以使用典型
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    limit2019-12-31 13:02
  • 德國愛思強股份有限公
    德國愛思強股份有限公司Vincent MERIC分享了化合物半導(dǎo)體外延量產(chǎn)解決方案,討論6英寸到8英寸的GaAs VCSEL激光器、GaN/InGaAs Mi
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