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    guansheng2023-05-22 13:46
  • 英諾賽科研發(fā)中心副總
    英諾賽科研發(fā)中心副總裁David C. ZHOU分享了《200mm 40V-650V E型硅基氮化鎵材料功率器件技術(shù):從器件、封裝、到系統(tǒng)》研究報(bào)告
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    limit2019-12-30 13:03
  • 極智報(bào)告|英諾賽科副
    英諾賽科(珠海)科技有限公司副總經(jīng)理金源俊介紹“200mm CMOS晶圓廠無(wú)分散增強(qiáng)型650V GaN-on-Si HEMTs 器件工藝”報(bào)告。 由于缺乏低成本GaN體襯底,GaN被外延生長(zhǎng)在各種基底上,最常見(jiàn)的是藍(lán)寶石,碳化硅(SiC)和硅。雖然晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)(CTE)的失配使外延GaN很困難,特別是對(duì)于較大的Si襯底尺寸,但是對(duì)GaN生長(zhǎng)Si襯底變得有吸引力,這是因?yàn)镾i的晶圓直徑大(200mm及更高)。為了替代商業(yè)的Si功率器件,GaN器件應(yīng)當(dāng)設(shè)計(jì)為增強(qiáng)型(e-mode),并通過(guò)低成本,
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    limit2025-05-11 06:33
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