特阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)的Kazuhiro OHKAWA教授介紹了《AlGaN 材料MOCVD生長(zhǎng)優(yōu)化和反應(yīng)器設(shè)計(jì)》研究報(bào)告。報(bào)告中，在較寬的壓力、Al /（Ga + Al）比例和溫度范圍內(nèi)成功仿真AlGaN生長(zhǎng)。考慮到適量聚合物的形成，仿真中AlGaN的生長(zhǎng)速率和組分與實(shí)驗(yàn)中的非常一致。這一技術(shù)使我們有可能優(yōu)化氮化物MOCVD并設(shè)計(jì)升級(jí)反應(yīng)器。