據悉，近日，中微公司在南昌舉辦新廠落成儀式，宣布其旗下全資子公司南昌中微半導體設備有限公司（以下簡稱“南昌中微”）的生產研發基地項目正式建成并投入使用。該項目于2019年啟動建設，占地面積約130畝，目前已投產的一期項目建筑面積約14萬平方米。

 

資料顯示，中微公司于2017年落戶南昌高新區，成立全資子公司南昌中微，并于2018年9月順利實現量產。南昌中微生產的用于 LED和功率器件外延片生產的 MOCVD 設備持續獲得客戶與市場的廣泛認可。

 

2021年，南昌中微推出了為Mini-LED量產而設計的Prismo UniMax? MOCVD設備主要用于氮化鎵（GaN）基Mini LED外延片量產，同年其設備訂單超100腔，并入選江西省科技成果轉化十大典型案例。

 

中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。其等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶先進工藝的眾多刻蝕應用，中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產