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【CASICON 2023】天科合達彭同華:碳化硅材料技術(shù)產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀與新趨勢

日期:2023-05-05 閱讀:398
核心提示:碳化硅作為寬禁帶半導體的重要代表,正在成為制作高性能電力電子器件的理想半導體材料,有數(shù)據(jù)顯示,碳化硅電力電子器件2021-202

 碳化硅作為寬禁帶半導體的重要代表,正在成為制作高性能電力電子器件的理想半導體材料,有數(shù)據(jù)顯示,碳化硅電力電子器件2021-2027年復合年均增長率為34%。碳化硅電力電子器件也已經(jīng)成為國內(nèi)外研究和產(chǎn)業(yè)化熱點。

2023年5月5日,“2023碳化硅關(guān)鍵裝備、工藝及其他新型半導體技術(shù)發(fā)展論壇”于長沙開幕。論壇在第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟的指導下,由極智半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)與中國電子科技集團第四十八研究所聯(lián)合組織。

彭同華

開幕大會上,北京天科合達半導體股份有限公司董事、常務副總經(jīng)理彭同華詳細分享了碳化硅材料技術(shù)產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀與新趨勢,介紹了SiC材料制備工藝流程、SiC晶體生長方法、SiC晶體加工方法,以及6英寸SiC襯底等技術(shù)進展。

報告指出,碳化硅襯底材料制備和外延生長關(guān)鍵技術(shù)已經(jīng)全面掌握,能支撐碳化硅器件對材料質(zhì)量的需求。未來襯底和外延研發(fā)將朝著生長速度更快、晶體更厚、尺寸更大、成本更低,技術(shù)參數(shù)分布區(qū)間更窄、均勻性更好等方向發(fā)展。近幾年隨著下游需求的快速增長,碳化硅材料總體呈現(xiàn)供不應求的態(tài)勢,預計2023年國內(nèi)6英寸導電襯底(導電型折合)供應量40萬片左右。國產(chǎn)碳化硅材料(導電型+半絕緣型)完全能夠支撐國內(nèi)下游的需求。國產(chǎn)碳化硅材料質(zhì)量獲得國外部件廠家認可。

當前,碳化硅材料國產(chǎn)化設備和原材料加速發(fā)展,碳化硅材料產(chǎn)業(yè)生態(tài)正在加速完成。8英寸碳化硅材料發(fā)展對新技術(shù)、新裝備是一個好機遇。單晶生長爐、晶體生長技術(shù)、切割技術(shù)、襯底磨拋技術(shù)、外延生長等方面,新技術(shù)、新產(chǎn)品、新裝備不斷涌現(xiàn)。

天科合達業(yè)務涵蓋碳化硅單晶生長設備制造,碳化硅原料合成,襯底制備和外延生長,主要產(chǎn)品包括6英寸導電型SiC晶片,6英寸半絕緣型SiC晶片、6英寸SiC晶體、SiC單晶爐。關(guān)鍵核心技術(shù)覆蓋SiC晶體生產(chǎn)全流程。

對于下一步發(fā)展布局,報告中透露,天科合達深圳重投項目預計2023年投產(chǎn),主要生產(chǎn)襯底和外延。生產(chǎn)襯底的江蘇徐州第二期和北京大興二期,預計將分別于2024年、2025年投產(chǎn)。

 
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