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華為公開芯片堆疊封裝相關專利

日期:2022-04-06 來源:全球半導體觀察閱讀:277
核心提示:國家知識產權局官網消息,4月5日華為技術有限公司公開了一項芯片相關專利。該項名為"一種芯片堆疊封裝及終端設備"的專利,涉及半導體技術領域,其能夠在保證供電需求的同時,解決因采用硅通孔技術而導致的成本高的問題。
國家知識產權局官網消息,4月5日華為技術有限公司公開了一項芯片相關專利。該項名為"一種芯片堆疊封裝及終端設備"的專利,涉及半導體技術領域,其能夠在保證供電需求的同時,解決因采用硅通孔技術而導致的成本高的問題。
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圖片來源:國家知識產權局
 
專利文件圖顯示,該芯片堆疊封裝 (01) 包括:
 
設置于第一走線結構 (10) 和第二走線結構 (20) 之間的第一芯片 (101) 和第二芯片 (102);
 
所述第一芯片 (101) 的有源面 (S1) 面向所述第二芯片 (102) 的有源面 (S2);
 
第一芯片 (101) 的有源面 (S1) 包括第一交疊區域 (A1) 和第一非交疊區域 (C1),第二芯片 (102) 的有源面 (S2) 包括第二交疊區域 (A2) 和第二非交疊區域 (C2);
 
第一交疊區域 (A1) 與第二交疊區域 (A2) 交疊,第一交疊區域 (A1) 和第二交疊區域 (A2) 連接;
 
第一非交疊區域 (C1) 與第二走線結構 (20) 連接;
 
第二非交疊區域 (C2) 與第一走線結構 (10) 連接。
 
在今年3月28日召開的華為2021年年度報告發布會上,華為首次公開確認芯片堆疊技術。當時,華為輪值董事長郭平回答了關于芯片問題,他表示,“解決芯片問題是一個復雜的漫長過程,需要有耐心,未來我們的芯片方案可能采用多核結構,以提升芯片性能。”他強調,華為會采取系統性的突破,來化解關鍵零部件難以獲取的困境。所謂系統性突破,即“華為計劃用面積、堆疊換性能,使工藝不那么先進的產品也能具有競爭力”。 
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