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上海微電子生產的中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付客戶

日期:2022-02-08 閱讀:500
核心提示:上海微電子生產的中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付客戶
半導體產業網消息:2月7日,上海微電子舉行首臺2.5D/3D先進封裝光刻機發運儀式,這標志著中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付客戶。不過,具體客戶未知。
上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。據了解,去年9月18日,上海微電子舉行了新產品發布會,宣布推出SSB520型新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。

根據資料顯示,該光刻機可滿足0.8μm(800nm)分辨率光刻工藝需求,極限分辨率可達0.6μm(600nm);通過升級運動、量測和控制系統,套刻精度提升至≤100nm,并能保持長期穩定性。當時推出的新品光刻機主要應用于高密度異構集成領域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點,可幫助晶圓級先進封裝企業實現多芯片高密度互連封裝技術的應用,滿足異構集成超大芯片封裝尺寸的應用需求,同時將助力封裝測試廠商提升工藝水平、開拓新的工藝,在封裝測試領域共同為中國集成電路產業的發展做出更多的貢獻。上海微電子曾表示,當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協議,首臺將于年內交付。
 
先進封裝光刻機是上海微電子目前的主打產品,全球市場占有率連續多年排名第一。此次發運的產品是新一代的先進封裝光刻機,主要應用于高端數據中心高性能計算(HPC)和高端AI芯片等高密度異構集成領域,可滿足2.5D/3D超大芯片尺寸的先封裝應用需求,代表了行業同類產品的最高水平。
 
此前,上海微電子舉行了新產品發布會,宣布推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。據悉,發布會推出的新品光刻機主要應用于高密度異構集成領域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點,可幫助晶圓級先進封裝企業實現多芯片高密度互連封裝技術的應用,滿足異構集成超大芯片封裝尺寸的應用需求,同時將助力封裝測試廠商提升工藝水平、開拓新的工藝,在封裝測試領域共同為中國集成電路產業的發展作出更多貢獻。
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