2019年7月，日本針對三種半導體材料對韓國實施出口管制，其中包含用于極紫外（EUV）光刻工藝的光刻膠。據悉為降低對日本的依賴，三星SDI近期已經開始開發半導體光刻膠。
據BusinessKorea報道，三星SDI最近為其研究中心的光刻膠開發引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設備。該公司此舉旨在將幾乎由日本壟斷的半導體光刻膠的生產內部化，并使旗下電子材料業務的單一產品組合變得多樣化。
目前，日本東京應化、JSR、住友化學、信越化學等日企握有全球九成半導體光刻膠市場份額。東京應化在g線/i線和Krf光刻膠領域居龍頭地位， JSR在Arf光刻膠領域市占率最高。
韓媒指出，三星SDI開發半導體光刻膠的舉措將對韓國持續推進的材料國產化產生重大影響。
在韓國當地，Dongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻膠供應商一直在為本土化生產而努力。然而，許多行業專家指出，韓國需要投入更多的資金和人力成本，才能成為核心半導體材料的中心。
行業分析人士指出，如果三星SDI進入該領域并大規模生產光刻膠，將大大增強韓國的半導體材料研究基礎設施。
但三星SDI并未透露光刻膠開發計劃的啟動和完成時間。該公司僅表示，在完成光刻膠開發后，不僅將向三星電子提供新產品，還將向其他半導體公司及使用光刻膠的公司供貨。
三星SDI的一位高管表示，“我們一直在開發各種類型的光刻膠，包括 EUV光刻膠。”不過，光刻膠的商業化時間及具體細節還未敲定。
